當前，人造金剛石產業正站在時代的風口，HTHP（高溫高壓法）和CVD（化學氣相沉積法）作為兩大核心生產技術，自具有獨特的優勢，如何實現兩個行業的協同發展？

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原理：以石墨粉、金屬觸媒粉末為原料，通過電流加熱和液壓裝置建立高溫、高壓環境，模擬天然金剛石結晶和生長環境，使石墨發生相變形成金剛石晶體。

優勢：技術成熟、合成速度快、單次產量高、制造成本相對較低，適合大規模工業化生產，國內應用廣泛且在全球具備明顯優勢。特別是在1-5ct培育鉆石合成方面具有明顯優勢。

應用：主要用于工業金剛石的生產，如鉆頭、磨具等工具，以及在珠寶行業中用于生產較小的培育鉆石。

現狀：據《培育鉆石產業發展白皮書（2024 年）》顯示，2023年中國培育鉆石毛坯產量超過2200萬克拉，占全球總產量的70%，其中大部分是采用HTHP法生產。在零售端，人造鉆石正在逐漸改變消費者的購買習慣，成為越來越多人購買鉆戒的選擇。

原理：在高溫低壓條件下，通過一定的方法激活含碳氣體（甲烷、氫氣、氮氣等），使其中的碳原子從碳源氣體剝離并在合適的基底上進行過飽和沉積，從而獲得高純度、高性能的金剛石。

優勢：能夠制備純度較高、尺寸較大的金剛石顆粒和金剛石膜。隨著技術的進步，可以工業化生產的尺寸顯著擴大，應用價值持續提升。

應用：主要用于半導體領域，如制備高功率、高頻、高溫及低功率損耗電子器件。此外，CVD法也在珠寶行業中用于生產較大的培育鉆石。

現狀：美國DF制造出全球首塊100mm單晶金剛石晶圓，展示了CVD法在大尺寸金剛石晶圓制備方面的潛力。

HTHP與CVD技術的協同發展，將為人造金剛石產業帶來新的增長點和競爭優勢。兩個行業可以實現進可攻退可守的戰略布局，共同引領產業邁向新格局。

02

挑選高質量的晶籽，通過嚴格的清洗程序，確保晶籽表面無任何雜質和污染物。同時利用顯微鏡等精密工具，對晶籽進行細致檢查，確保其表面光潔，無多晶或其他缺陷。

將清洗并檢驗合格的晶籽置于碳方程自主研發的MPCVD設備中，通過精確控制溫度、壓力、氣體成分等關鍵參數，啟動鉆石的精細生長過程。

在低壓高溫下，氣體會分裂出一個個碳的等離子體，到“種子鉆石”上，經過數周的生長，鉆石毛坯逐漸成形，達到我們所需的厚度。碳方程50200A MPCVD設備單次可以生長8英寸多晶產品，若用于生長單晶金剛石時，單爐可生長489粒（7*7MM）。

生長的鉆石邊緣會有多晶，此時需切除其黑色多晶邊緣，確保毛坯的純凈度。

鉆石毛坯進入嚴格的質檢環節，包括顏色、凈度、切工、尺寸等多方面的全面檢查。只有通過嚴苛質檢的鉆石毛坯，才能被認定為合格產品。