11月19日上午，太原科技局領導蒞臨公司，開展入企服務與交流指導工作，此次訪問不僅體現了科技局對我司半導體材料專用設備研發工作的重視，更為公司未來的發展指明了方向。

碳方程總經理趙總詳細介紹了公司自主研發的微波等離子化學氣相沉積MPCVD設備。該設備以其卓越的性能和獨特的優勢，贏得了科技局領導們的高度贊譽。趙總還遠程連線長治實驗基地，詳細闡述了碳方程MPCVD設備的研發歷程及技術優勢，并講述了金剛石的切磨線業務，同時還就金剛石大尺寸材料的相關配套設備的研發進展和未來應用前景進行了深入淺出的講解，除此之外，還對公司與多所高校合作的實驗項目進行了展示和介紹。

科技局的工作人員在訪問期間，對現行的科技創新惠企政策進行了宣傳，為公司的發展提供了寶貴的政策指導。他們詳細解讀了相關政策內容，幫助公司更好地理解和把握政策機遇，為公司的未來發展指明了方向。同時，還深入了解到我司在晉創谷現行試驗場地上遇到的問題。針對這些問題，他們表示將積極協調各方資源，幫助公司解決場地等方面的實際困難，為公司的發展提供有力的支持和保障。

此次蒞臨服務指導，為公司科技創新和未來發展注入了新的動力，我們將不斷提升公司的研發實力和創新能力，為金剛石半導體材料產業的發展貢獻更大的力量。